根据金鉴实验室总结的焊点开裂,焊锡不良失效分析来看
一般锡裂的可能原因是:
焊锡工艺参数
焊锡未完全熔融、
镀层有腐蚀、污染
镀层有孔洞(柯肯达尔孔洞)等,
导致无法生成良好的IMC层,
还有的外界应力的作用也有可能导致焊锡开裂失效
针对于焊锡点开裂、上锡不良失效分析方案:
案例一:
1:针对焊锡不良位置(掉元件/缩锡)进行SEMEDS检测
其目的是对问题点位置进行表面分析,检测镀层表面是否存在异常,是否存在金面污染,如下图1(具体元素污染项对应),从SEMED分析结果来看,断裂面上元素有C、O、Ni、P、Au,不难看出,上锡后板面检测出含有Au元素,正常的情况下上锡后Au会被融掉,此样品还存在板面有Au残留的现象,此为异常情况。
图1:断裂面PCB焊盘表面SEMamp;amp;amp;amp;amp;EDS图
污染导致镀层有腐蚀:
2:针对问题产品未上锡或者未上元件的位置进行SEMEDS检测
其目的是确认金面是否有异常元素,是否存在表面污染,并需进一步的对剥金后的镍面进行SEMEDS检测,确定剥金后镍面的表面结晶状况以及镍层磷含量是否正常,如下图2为不正常处镍面SEM图,可以看到,表面我们可以形式“海绵”状的疏松结晶层:同时我们也对比正常的化金后金面以及镍面的SEM图,如下图3所示,正常的金面以及镍面没有明显的晶界裂痕,沉积的颗粒大小分布均匀。但当铜面或者镍面上有异常的现象时,我们可以看到如图4左所示的剥金后镍面的有裂痕、空洞,图4左边的现象可能为铜面的粗糙造成的,铜面的粗糙会导致镍沉积的颗粒大小不一,镍面的排列为大颗粒与小颗粒紧挨的时候晶界就比较大,容易在化金时,遭到金水的攻击。
图2:不正常处镍面SEM图
图3左图为正常金表面SEM图片,右图正常镍面SEM图片
图4左图为镍面有裂纹,右图为镍面有腐蚀空洞
3:上面对金面、镍面进行的SEM分析,下面将对金面EDS检测出异常元素的问题进行分析:
从图5的检测结果可以看到,测试出的元素有:C、O、P、Ni、Cu、Au,对比正常的分析结果,测试结果中的C、O、Cu三元素属于异常元素,一般情况下C元素含量在20%以内为外界环境污染所致(在取样或者检测过程中),而超过20%则为有机污染所致;O元素说明存在污染或者氧化,Cu元素说明金面在清洗或者保存过程中有Cu的污染,此现象极易造成金面发红,严重影响焊锡性;
Elementmass%
CK37.46
OK5.52
PK2.6
NiK24.43
CuK10.16
AuM19.83
Total
图5异常金面EDS结果
4、下面图表列出最有可能污染金面而所相对应的元素:
表1列出了印制板厂生产中用到的一些可能对化镍金表面污染的材料,对于以后EDS检测的结果,可以做一个参考。
表1不同材料EDS分析元素
5:针对焊接不良位置进行切片后SEMEDS分析检测
其目的是检查是否存在镍腐蚀、焊接位IMC(IntermetallicCompound)层的状况、是否存在富磷层的状况等,图6分别显示了均匀连续的IMC层以及疏松的IMC层,我们知道均匀连续的IMC层焊接点才是牢固的,疏松的IMC层焊接存在焊接不良的隐患;正常的IMC层表现为:在连续均匀的情况下,IMC层维持在1-3um最为理想;而富磷层则控制越薄越好。
不佳的IMC层和过厚的富磷层主要是由于化学镍金本身镍层存在问题,或者在焊接过程中焊接的参数控制不当所造成。
图6左图为正常的IMC层右图疏松的IMC层
良品IMC层离子研磨切片分析结合良好:
对脱落贴片电子元件残留的焊锡进行FIB切割分析,结果显示脱落灯珠背面残留焊锡与镀铜层间存在缝隙,未形成良好的IMC。
6:针对焊接不良产品未上锡或上件的金面同样进行切片后的EDS检测,主要检测的是镍层是否存在镍腐蚀状况,检查镍层的状况;对于是否存在镍腐蚀这是有一个判断标准的,正常镍腐蚀按照“任天堂标准为镍腐蚀深度不超过整个镍厚的1/5,在一个可观测界面内少于三个位置存在腐蚀点。图7列举的是镍腐蚀比较严重的图片,图8列举的是正常的图片,从这两组图大家可以很清楚的看出区别点,在这里就不做多余的解释:
图7严重镍腐蚀切片图
图8正常的镍腐蚀图
金鉴实验室提醒各位电子行业朋友针对于出现焊锡不良的问题,原因查找要做两个测试:一是取问题板进行测试,针对于问题点进行表面的SEM分析,观察表面结构以及切片观察焊锡后的IMC层状况;再者就是对问题位置进行EDS元素分析;二是取同样批次的未进行焊锡的化金板进行析,这是针对问题板测试的结果进行必要的数据收集,测试包括表面的SEMEDS分析。通过前面的两组数据的对比、分析,可以得出一个结果,对于寻找焊锡不良失效原分析因可以起到辅助作用。
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